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貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之一一電子半導(dǎo)體》

貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之一一電子半導(dǎo)體》

  • 分類:應(yīng)用技術(shù)
  • 作者:大話稀金
  • 來(lái)源:
  • 發(fā)布時(shí)間:2023-08-29 10:52
  • 訪問(wèn)量:0

【概要描述】隨著電子半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)的不斷發(fā)展和未來(lái)需求的不斷增長(zhǎng),需要高度精確的芯片制造過(guò)程,這就需要黃金等貴金屬提供幫助。盡管這些微縮電子元件的黃金需求相對(duì)較少,但缺少黃金仍會(huì)顯著影響芯片和終端設(shè)備的性能。因此黃金這種古老的貴金屬,在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中仍然展現(xiàn)出其強(qiáng)大的活力和潛力。從連接線到拋光工藝,再到微型化的發(fā)展,金都在其中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,我們期待金在此領(lǐng)域中的應(yīng)用將更加廣泛和深入。

貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之一一電子半導(dǎo)體》

【概要描述】隨著電子半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)的不斷發(fā)展和未來(lái)需求的不斷增長(zhǎng),需要高度精確的芯片制造過(guò)程,這就需要黃金等貴金屬提供幫助。盡管這些微縮電子元件的黃金需求相對(duì)較少,但缺少黃金仍會(huì)顯著影響芯片和終端設(shè)備的性能。因此黃金這種古老的貴金屬,在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中仍然展現(xiàn)出其強(qiáng)大的活力和潛力。從連接線到拋光工藝,再到微型化的發(fā)展,金都在其中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,我們期待金在此領(lǐng)域中的應(yīng)用將更加廣泛和深入。

  • 分類:應(yīng)用技術(shù)
  • 作者:大話稀金
  • 來(lái)源:
  • 發(fā)布時(shí)間:2023-08-29 10:52
  • 訪問(wèn)量:0
詳情

唐代文學(xué)家陸龜蒙寫(xiě)道:“自古黃金貴,猶沽駿與才”。黃金自古以來(lái)就是一種有價(jià)值的貴金屬,其獨(dú)特的化學(xué)和物理性質(zhì)使其在很多領(lǐng)域都有廣泛的運(yùn)用。既是儲(chǔ)備和投資的特殊通貨,又是首飾業(yè)的“霸主”,更是現(xiàn)代通信、航天航空業(yè)等特殊行業(yè)的重要材料,在每一個(gè)領(lǐng)域都充當(dāng)了重要的角色。在電子設(shè)備制造領(lǐng)域,黃金因其良好的導(dǎo)電性能廣受好評(píng)。黃金的導(dǎo)電性能不僅優(yōu)于銅和銀等常見(jiàn)的導(dǎo)電金屬,而且在高溫、高壓和低溫等極端環(huán)境下也表現(xiàn)出了良好的穩(wěn)定性。因此,黃金在半導(dǎo)體和電子元件中被廣泛應(yīng)用。

 

黃金主要以電鍍化學(xué)品、金鍵合線和濺射靶材的形式用于電子半導(dǎo)體。在電子產(chǎn)品中,黃金的最大用途是作為連接器和觸電的電鍍涂層。其次是半導(dǎo)體封裝內(nèi)的金鍵合線,其他用途還包括混合電路、印刷電路板和組件的可焊涂層,作為金基焊料和半導(dǎo)體上的金屬層,作為導(dǎo)體軌道和接觸墊等。

 

1、連接器和觸點(diǎn)

連接器和觸點(diǎn)可以使用各種各樣的材料,選擇何種合適的材料,則需要考慮多種因素,包括:電流,電壓,接觸力,磨損,微動(dòng)(由于振動(dòng)和熱循環(huán)),環(huán)境條件(溫度,腐蝕性氣體等),材料成本等等。

黃金用于連接器和觸點(diǎn),主要是因?yàn)樗哂袃?yōu)異的耐腐蝕性、高導(dǎo)電性,并且與少量鎳或鈷合金后具有更加良好的耐磨性。對(duì)于低電壓、低電流和低接觸力的應(yīng)用,金是最好的材料。

對(duì)于連接器和觸點(diǎn)材料的一個(gè)重要指標(biāo),就是檢驗(yàn)金屬的易感性。一般會(huì)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)電極電位數(shù)據(jù)來(lái)確認(rèn)易感性。表1給出了金屬的電極電位值。通常情況下,正值大表明耐腐蝕性好,負(fù)值大表明反應(yīng)性高。但實(shí)際情況并非如此簡(jiǎn)單,因?yàn)榘ㄣ~和鐵在內(nèi)的一些金屬,在使用一段時(shí)間后,會(huì)被氧化形成氧化物,如氧化銅、三氧化二鋁等物質(zhì),氧化物會(huì)使得集成電路出現(xiàn)導(dǎo)線繡斷,出現(xiàn)接觸不良的現(xiàn)象。

 

金屬 標(biāo)準(zhǔn)電極電位(伏) 評(píng)價(jià)
黃金 Au+→Au:+1.68 非常惰性,耐氧化和腐蝕
Pd2+→Pd:+0.83 抗腐蝕性和抗氧化性低于金
Ag+→Ag:+0.80 具有良好的抗氧化性和抗腐蝕性,但容易受到硫化物和氯化物的侵蝕
Cu2+→Cu:+0.34 在空氣中容易氧化,在有水分的地方容易腐蝕
Sn2+→Sn:-0.136 形成一層稀薄的惰性保護(hù)性氧化物,由于錫相對(duì)較軟,容易被損壞
Ni2+→Ni:-0.23 形成稀薄但惰性強(qiáng)、保護(hù)性強(qiáng)的氧化物,可以防止進(jìn)一步氧化,同時(shí)也是一種良好的電絕緣體
Al3+→Al:-1.7 鋁的反應(yīng)性很強(qiáng),但會(huì)迅速形成一層薄薄的惰性氧化物,具有很強(qiáng)的保護(hù)作用

 

表 1 金屬標(biāo)準(zhǔn)電極電位

 

 

連接器或觸點(diǎn)最終材料的選擇會(huì)在性能和成本之間做出妥協(xié)。表2對(duì)低連接器和觸點(diǎn)常用的材料優(yōu)劣情況進(jìn)行了總結(jié),并與黃金進(jìn)行了比較。閉合連接器或一對(duì)觸點(diǎn)的實(shí)際接觸總面積與表面尺寸相比通常非常小,因?yàn)榻佑|僅在幾個(gè)非常小的位置進(jìn)行。這增加了觸點(diǎn)之間的電阻,因此電流的通過(guò)會(huì)產(chǎn)生熱量。接觸壓力的增加加大了接觸面積,從而降低了電阻。電壓和接觸壓力都會(huì)影響局部加熱,從而導(dǎo)致表面氧化或表面熔化。電弧也可能發(fā)生。所有這些都會(huì)影響觸點(diǎn)的壽命。氧化或腐蝕會(huì)影響添加到金中的合金元素,但這些元素是用來(lái)改變其性能的,如硬度或溶解速度。

 

黃金 純金較軟,所以通常使用硬金。純金不易被腐蝕或氧化,但合金元素可能會(huì)。含0.4%Co合金的硬金在200℃下使用會(huì)形成絕緣氧化物。金通常電鍍?cè)阪嚿?/td>
由于成本低,常用作黃金的替代品,但容易被微量硫化物影響而失去光澤,耐磨性差
比銀便宜,但容易被腐蝕。初始接觸電阻比金高,一旦發(fā)生氧化或腐蝕,接觸電阻就會(huì)變差
鈀/鎳 最初作為金的低成本替代品被引入,但現(xiàn)在鈀的價(jià)格也不便宜。鈀具有非常好的耐磨性,但在高溫下容易被氧化、腐蝕和形成絕緣膜。通常,鈀被電鍍?cè)阪嚿?/td>
金/鈀鎳 在鈀上使用薄金閃光來(lái)減少氧化與腐蝕
金合金 具有良好的耐腐蝕性,用于電觸點(diǎn),并通過(guò)包層應(yīng)用。減低了金的成本,但導(dǎo)電性不如純金
銅及其合金 干凈未氧化的銅具有非常好的導(dǎo)電性,但如果有絕緣的氧化物涂層,會(huì)迅速被氧化和腐蝕。在接觸力較高和電力傳輸中常被使用

表 2 連接器和觸點(diǎn)的材料比較

 

隨著物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 的發(fā)展,越來(lái)越多的設(shè)備被連接起來(lái),以提供對(duì)信息和數(shù)據(jù)的即時(shí)訪問(wèn)。換言之,任何電氣設(shè)備的有效性和可靠性在很大程度上取決于連接的質(zhì)量,特別是連接器或觸點(diǎn)上使用的鍍層。對(duì)于接觸電阻的微小變化會(huì)影響產(chǎn)品性能的低壓信號(hào)傳輸應(yīng)用,因此在生命安全傳感器或自動(dòng)駕駛汽車等需要極其可靠的實(shí)時(shí)信號(hào)傳輸?shù)年P(guān)鍵應(yīng)用上,目前只有黃金作為介質(zhì)可以實(shí)現(xiàn),因?yàn)榕c其他金屬相比,金在任何正常條件下都不會(huì)形成硫化物或失去光澤,這使得黃金成為電子半導(dǎo)體行業(yè)連接器和觸點(diǎn)更可行的選擇。

 

2、封裝用鍵合絲

鍵合絲作為微電子封裝領(lǐng)域四大基礎(chǔ)關(guān)鍵材料(芯片、鍵合絲、引線框架/基板、塑封料)之一,是芯片與引線框架之間實(shí)現(xiàn)電氣互聯(lián)的內(nèi)引線,起到連接半導(dǎo)體芯片與外部電路電流傳輸以及信號(hào)互聯(lián)的作用,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體分立器件和集成電路的封裝。目前市場(chǎng)上使用比較普及的鍵合絲產(chǎn)品包括四個(gè)類型:鍵合金絲、鍵合銅絲、鍵合銀絲、鍵合鋁絲。

 

相比較銅和銀,黃金價(jià)格雖然高,但黃金制成的鍵合金絲具有延展性好、導(dǎo)電性能佳、金絲球焊速度快及可靠性高等特點(diǎn),因此是鍵合絲品種中使用最早、用量最大的一類。通常長(zhǎng)2mm,厚25μm,每根線僅使用約20納克金。隨著越來(lái)越多的集成電路的需要,一些集成電路可能有超過(guò)200個(gè)線鍵連接,因此用于線鍵合的黃金數(shù)量不斷增加。2022年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體鍵合絲需求量增長(zhǎng)至360.1億米,其中鍵合金絲需求量達(dá)到62.3億米。

 

圖 1 2022年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體鍵合絲需求(數(shù)據(jù)來(lái)源:智研咨詢)

 

3、金焊料

半導(dǎo)體功率器件中的芯片,會(huì)產(chǎn)生大量熱量,因此需要散熱以防止損壞。一般來(lái)說(shuō),任何功率超過(guò)5瓦的設(shè)備都需要一個(gè)良好的導(dǎo)熱通道來(lái)散熱。這可以通過(guò)使用焊料合金將芯片粘接到封裝上實(shí)現(xiàn)。

而隨著市場(chǎng)對(duì)高性能功率器件開(kāi)發(fā)需求的提高,市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體器件的封裝焊料提出了更高要求。不僅需要考慮到焊料的印刷性(點(diǎn)涂性)、焊接的可靠性、助焊劑殘留的清洗性、助焊劑殘留和塑封料的兼容性等,還需要考慮到功率器件的大電流、高發(fā)熱量、超高功率的特性。功率器件向著更小晶粒面積發(fā)展的趨勢(shì)能帶來(lái)性能和成本方面的優(yōu)勢(shì),也會(huì)帶來(lái)散熱方面的劣勢(shì);向更高的電壓和更低的損耗方向的發(fā)展,則要求焊接層有更小的空洞率。

目前市場(chǎng)常用的有以Au80Sn20為代表的金錫系列、以SAC305為代表的錫銀銅系列、以Sn88Ag3.5In8Bi0.5為代表的錫銀銦鉍系列、以SnSb5、SnSb10為代表的錫銻系列、以Sn42Bi58為代表的錫鉍系列、銦焊料等。

 

 

銦焊料是大功率半導(dǎo)體激光器封裝最常用的焊料之一。銦焊料在高電流下易產(chǎn)生電遷移與電熱遷移問(wèn)題,將影響半導(dǎo)體激光器的穩(wěn)定性。銦焊料封裝的激光器的壽命遠(yuǎn)遠(yuǎn)短于金錫焊料封裝的器件,而且在使用時(shí)器件性能會(huì)出現(xiàn)突然退化的現(xiàn)象。采用無(wú)銦化封裝技術(shù)可克服銦焊料層的電遷移。在無(wú)銦化焊料的選擇中,金錫焊料由于其封裝器件的性能穩(wěn)定性而成為封裝中的重要焊料。

共晶錫/鉛焊料可以形成良好的鍵合,具有相對(duì)的延展性,但如果組件引線用標(biāo)準(zhǔn)焊料焊接到PCB或其他部件上,則不適合。同時(shí)隨著集成電路集成度的提高,IC引腳更加密集。垂直噴錫工藝很難使薄墊平整,這使得SMT的放置變得困難,此外,鍍錫板的保質(zhì)期很短。雖然可以使用具有高鉛含量的高熔點(diǎn)焊料,但粘接處可能出現(xiàn)多孔和空隙,從而導(dǎo)致接合處產(chǎn)生應(yīng)力和熱點(diǎn)。

表3列出了較常用的芯片連接焊料的特性。對(duì)比可以看出金焊料的導(dǎo)熱性能比錫或鉛焊料更好,熔化溫度也比無(wú)鉛合金高,是熔點(diǎn)在280-360°C范圍內(nèi)唯一可以替代高熔點(diǎn)鉛基合金的焊料。與高鉛含量合金相比,金合金焊料具有更好的抗熱疲勞性能,而且一個(gè)典型的集成電路只會(huì)使用2-3毫克的金,成本在可接受范圍。它可用于芯片與電路基材的連接,以及高可靠電路氣密封裝。例如,用于互聯(lián)網(wǎng)通信的激光二極管,使用80Au20Sn作為封裝蓋密封和芯片連接焊料。不難看出,金合金焊料在電子半導(dǎo)體有廣闊的應(yīng)用前景。

 

合金 導(dǎo)熱系數(shù)W/mK 熔化溫度℃
63%Sn-37%Pb 51 183
99%Sn-1%Sb 29 235
88Pb%-10%Sn-2%Ag 27 268-290
90%Pb-5%Sn-5%Ag 26 292
黃金錫 57 280
金硅 27 363
金鍺 44 361

表 3 貼裝焊料性能

 

4、可焊涂層

印制電路板(PCB)被制造出來(lái)后,當(dāng)中的銅電路就會(huì)迅速氧化,使用電子助焊劑時(shí)就無(wú)法潤(rùn)濕表面。因此,需要在電路板涂上一層保護(hù)層,以便在存放過(guò)程中保護(hù)電路板。其中最常用的是化學(xué)鍍鎳和浸金。使用黃金的成本比一些替代品昂貴,但黃金性能優(yōu)越。如使用有機(jī)可焊性防腐劑(OSP),雖然成本低,但保護(hù)涂層非常容易受到指紋和輕微摩擦的損壞。此外還有錫和銀涂層,與有機(jī)防焊劑相比不易損壞,但比鎳/金更容易失去光澤或腐蝕。相比之下,黃金不僅可以形成非常平坦的涂層面,適合將裸芯片直接焊接到PCB上,而且很容易被液態(tài)焊料浸濕。通常使用的金的厚度為0.08μm,因此每個(gè)PCB上使用的金很少,成本在可接受范圍。當(dāng)焊接時(shí),這極少量的金會(huì)溶解到焊料中并保持在溶液中,因此不會(huì)影響連接的可靠性。焊料與鎳形成牢固的結(jié)合,而鎳在液態(tài)焊料中的溶解速度要比金或銅慢得多。如果沒(méi)有薄的浸金層,鎳就不能單獨(dú)使用,因?yàn)樗┞对诳諝庵袝?huì)氧化,形成一層非常穩(wěn)定的氧化物,防止焊料潤(rùn)濕表面。極具腐蝕性的助焊劑雖然可以緩解這一問(wèn)題,但不適用于電子電路。

 

 

電遷移是一種在某些條件下會(huì)影響印刷電路板、混合印刷電路板和某些電子元件的過(guò)程,表現(xiàn)為金屬在兩個(gè)導(dǎo)體之間的絲狀生長(zhǎng)。例如高濕度、電位和離子材料,如助焊劑殘留物。大多數(shù)金屬在某些條件下都會(huì)發(fā)生電遷移,比如銀、鋁導(dǎo)體會(huì)受到電遷移的影響。然而金的電遷移非常罕見(jiàn),只有在氯離子存在的情況下才會(huì)發(fā)生。

 

特性 HASL OSP 化學(xué)鍍鎳/浸金 電解鎳/電鍍金 浸銀 浸錫
焊點(diǎn)可靠性 存在BGA“黑盤(pán)”和焊點(diǎn)脆變問(wèn)題 存在金脆問(wèn)題
測(cè)試點(diǎn)探測(cè)
組裝后銅裸露
開(kāi)關(guān)/觸點(diǎn)
廢物處理和PCB制造安全性 一般 一般
表面涂層厚度控制 存在厚度控制問(wèn)題 存在厚度控制問(wèn)題
成本 1 1 1.1-1.3 1.2-1.5 1 1

表4 涂層材料性能對(duì)比

 

5、濺射鍍金

電子工業(yè)經(jīng)歷了由電子管、半導(dǎo)體集成電路及超大規(guī)模集成電路的發(fā)展歷程,對(duì)人類社會(huì)的各個(gè)方面帶來(lái)革命性的沖擊。高純金濺射靶材作為電子工業(yè)領(lǐng)域各類芯片及集成電路中電極薄膜層制備的關(guān)鍵源材料,當(dāng)電子芯片持續(xù)向輕、薄、短、小以及高密度方向發(fā)展時(shí),對(duì)缺陷的容忍度也相對(duì)降低。同時(shí)隨著集成電路器件密集度的提高,單位芯片的面積也越來(lái)越小,原本不會(huì)影響良率的缺陷變成了良率的短板。因此,對(duì)于高純金靶材的純度、晶粒尺寸、均勻性和微觀組織結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性等性能提出了更高的要求。

在電子薄膜領(lǐng)域,金薄膜主要通過(guò)磁控濺射工藝獲得,金靶材的濺射原理如圖所示:

 

金靶材作為陰極,電子在加速電壓的作用下與濺射腔體中的氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+和電子。電子飛向基片,Ar+在電場(chǎng)作用下加速轟擊金靶材,濺射出大量的金原子,呈中性的金原子沉積在基片上成膜。在濺射過(guò)程中,由于磁場(chǎng)的存在,電子受磁場(chǎng)洛倫茲力的作用,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),并在磁場(chǎng)作用下圍繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng)。金在7.8-975k的溫度范圍內(nèi)磁化率僅為(-0.141~-0.143)×10-6cm³/g,具有優(yōu)良的導(dǎo)電性和良好的高溫抗氧化性能。而為了降低成本、節(jié)約金的用量,金靶材的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)主要依據(jù)磁控濺射設(shè)備陰極的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu),靶材形狀須與所用濺射設(shè)備匹配。

 

 

金可以通過(guò)各種真空鍍膜技術(shù)鍍?cè)诮饘?、陶瓷和塑料等多種基底上。在濺射技術(shù)中,金以“靶”的形式使用。金是最佳的光學(xué)反射器,具有出色的耐腐蝕性和抗褪色性。鍍膜時(shí),高能離子將金原子從表面噴射出來(lái),然后沉積到鍍膜基材上。

靶材作為濺射工藝的陰極源材料,需要固定在濺射設(shè)備的陰極上。同時(shí)在濺射過(guò)程中需要導(dǎo)電,也會(huì)產(chǎn)生一定的熱量。因此,大多數(shù)的靶材都需要通過(guò)具有一定強(qiáng)度和良好散熱性的材料,如鋁、銅等作為背板起到強(qiáng)度支撐、導(dǎo)電、導(dǎo)熱的作用。靶材與背板的連接稱為綁定,是濺射靶材制備技術(shù)中非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。綁定質(zhì)量直接影響濺射工藝和產(chǎn)品膜的質(zhì)量。目前金靶常用的綁定方法有釬焊法、鑲嵌復(fù)合法。

隨著電子半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)的不斷發(fā)展和未來(lái)需求的不斷增長(zhǎng),需要高度精確的芯片制造過(guò)程,這就需要黃金等貴金屬提供幫助。盡管這些微縮電子元件的黃金需求相對(duì)較少,但缺少黃金仍會(huì)顯著影響芯片和終端設(shè)備的性能。因此黃金這種古老的貴金屬,在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中仍然展現(xiàn)出其強(qiáng)大的活力和潛力。從連接線到拋光工藝,再到微型化的發(fā)展,金都在其中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,我們期待金在此領(lǐng)域中的應(yīng)用將更加廣泛和深入。

 

參考文獻(xiàn):

[1. ]Paul Goodman, Current and Future uses of gold in electronics, Gold bulletin[2. ]Wu W H., Study on the preparation of high purity gold by centrifugal extraction, Gold,2018[3. ]Zhang Q, Manufacture, application and trends of gold-base supptering target alloys, Materials review,2014[4. ]He J J, Application and fabrication method of high purity precious metals sputtering targets used in semiconductor, Precious metals,2013

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通過(guò)添加適量的釕元素,可以顯著改善合金的性能,提高其機(jī)械性能、耐腐蝕性和耐高溫性能。此外,釕合金還具有出色的電化學(xué)性能,可用于制備高效能的電池和電催化劑。因此,釕在合金添加中的應(yīng)用具有廣闊的發(fā)展前景,值得進(jìn)一步研究和探索。
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通過(guò)添加適量的釕元素,可以顯著改善合金的性能,提高其機(jī)械性能、耐腐蝕性和耐高溫性能。此外,釕合金還具有出色的電化學(xué)性能,可用于制備高效能的電池和電催化劑。因此,釕在合金添加中的應(yīng)用具有廣闊的發(fā)展前景,值得進(jìn)一步研究和探索。
貴金屬系列三《銀在高端制造業(yè)中應(yīng)用之電子半導(dǎo)體和光學(xué)行業(yè)》
貴金屬系列三《銀在高端制造業(yè)中應(yīng)用之電子半導(dǎo)體和光學(xué)行業(yè)》
隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等科技的快速發(fā)展,對(duì)高性能半導(dǎo)體器件和光學(xué)材料的需求日益增長(zhǎng),銀作為一種獨(dú)特的金屬材料,其在電子半導(dǎo)體和光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用前景廣闊,隨著相關(guān)行業(yè)和技術(shù)的發(fā)展,銀在高端制造業(yè)中的地位和作用將越來(lái)越重要。
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隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等科技的快速發(fā)展,對(duì)高性能半導(dǎo)體器件和光學(xué)材料的需求日益增長(zhǎng),銀作為一種獨(dú)特的金屬材料,其在電子半導(dǎo)體和光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用前景廣闊,隨著相關(guān)行業(yè)和技術(shù)的發(fā)展,銀在高端制造業(yè)中的地位和作用將越來(lái)越重要。
貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之—生物醫(yī)藥與化工催化》
貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之—生物醫(yī)藥與化工催化》
黃金的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,與其它貴金屬元素相比,黃金因具有良好的生物兼容性和力學(xué)性能,進(jìn)而成為重要的人造器官材料和外科移植材料,如神經(jīng)修復(fù)、心臟起搏器等都使用了黃金和合金材料。
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黃金的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,與其它貴金屬元素相比,黃金因具有良好的生物兼容性和力學(xué)性能,進(jìn)而成為重要的人造器官材料和外科移植材料,如神經(jīng)修復(fù)、心臟起搏器等都使用了黃金和合金材料。
貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之一一電子半導(dǎo)體》
貴金屬系列二《黃金在高端制造業(yè)中應(yīng)用之一一電子半導(dǎo)體》
隨著電子半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)的不斷發(fā)展和未來(lái)需求的不斷增長(zhǎng),需要高度精確的芯片制造過(guò)程,這就需要黃金等貴金屬提供幫助。盡管這些微縮電子元件的黃金需求相對(duì)較少,但缺少黃金仍會(huì)顯著影響芯片和終端設(shè)備的性能。因此黃金這種古老的貴金屬,在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中仍然展現(xiàn)出其強(qiáng)大的活力和潛力。從連接線到拋光工藝,再到微型化的發(fā)展,金都在其中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,我們期待金在此領(lǐng)域中的應(yīng)用將更加廣泛和深入。
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隨著電子半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)的不斷發(fā)展和未來(lái)需求的不斷增長(zhǎng),需要高度精確的芯片制造過(guò)程,這就需要黃金等貴金屬提供幫助。盡管這些微縮電子元件的黃金需求相對(duì)較少,但缺少黃金仍會(huì)顯著影響芯片和終端設(shè)備的性能。因此黃金這種古老的貴金屬,在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中仍然展現(xiàn)出其強(qiáng)大的活力和潛力。從連接線到拋光工藝,再到微型化的發(fā)展,金都在其中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,我們期待金在此領(lǐng)域中的應(yīng)用將更加廣泛和深入。
真空鍍膜材料及技術(shù)系列五《化學(xué)氣相沉積法鍍膜概述》
真空鍍膜材料及技術(shù)系列五《化學(xué)氣相沉積法鍍膜概述》
隨著航天航空領(lǐng)域、核工業(yè)和半導(dǎo)體等領(lǐng)域?qū)τ诎雽?dǎo)體器件和集成電路、高場(chǎng)強(qiáng)小型的超導(dǎo)材料、生成晶須等產(chǎn)品要求的不斷提高,化學(xué)氣相沉積技術(shù)作為重要的材料制備和有效的材料表面改性方法,具有十分廣闊的市場(chǎng)應(yīng)用前景。
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隨著航天航空領(lǐng)域、核工業(yè)和半導(dǎo)體等領(lǐng)域?qū)τ诎雽?dǎo)體器件和集成電路、高場(chǎng)強(qiáng)小型的超導(dǎo)材料、生成晶須等產(chǎn)品要求的不斷提高,化學(xué)氣相沉積技術(shù)作為重要的材料制備和有效的材料表面改性方法,具有十分廣闊的市場(chǎng)應(yīng)用前景。
真空鍍膜材料及技術(shù)系列四《真空離子鍍膜概述》
真空鍍膜材料及技術(shù)系列四《真空離子鍍膜概述》
隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,機(jī)械制造業(yè)在生產(chǎn)中起著越來(lái)越重要的作用。而機(jī)械零件表面的腐蝕問(wèn)題,對(duì)機(jī)械制造行業(yè)來(lái)說(shuō)是一個(gè)重大的問(wèn)題。因此,如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蝕性等性能是機(jī)械制造業(yè)的一大關(guān)鍵。在零件表面涂覆涂層是提高其性能最常用的方法之一,但是涂層技術(shù)有很多缺點(diǎn),例如:涂層的結(jié)合力差,易脫落;涂層與基體材料之間有較大的熱膨脹系數(shù)差異,涂層易開(kāi)裂等。這些缺點(diǎn)限制了它在實(shí)際生產(chǎn)中的應(yīng)用。目前,國(guó)內(nèi)外研究和開(kāi)發(fā)出了多種方法來(lái)解決上述問(wèn)題。其中利用物理氣相沉積法(PVD)是一種很有發(fā)展前途的技術(shù),而真空離子鍍膜技術(shù)則是其中一種新型的技術(shù)。
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隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,機(jī)械制造業(yè)在生產(chǎn)中起著越來(lái)越重要的作用。而機(jī)械零件表面的腐蝕問(wèn)題,對(duì)機(jī)械制造行業(yè)來(lái)說(shuō)是一個(gè)重大的問(wèn)題。因此,如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蝕性等性能是機(jī)械制造業(yè)的一大關(guān)鍵。在零件表面涂覆涂層是提高其性能最常用的方法之一,但是涂層技術(shù)有很多缺點(diǎn),例如:涂層的結(jié)合力差,易脫落;涂層與基體材料之間有較大的熱膨脹系數(shù)差異,涂層易開(kāi)裂等。這些缺點(diǎn)限制了它在實(shí)際生產(chǎn)中的應(yīng)用。目前,國(guó)內(nèi)外研究和開(kāi)發(fā)出了多種方法來(lái)解決上述問(wèn)題。其中利用物理氣相沉積法(PVD)是一種很有發(fā)展前途的技術(shù),而真空離子鍍膜技術(shù)則是其中一種新型的技術(shù)。
真空鍍膜材料及技術(shù)系列三《蒸發(fā)鍍膜技術(shù)概述與優(yōu)質(zhì)蒸鍍材料的選擇》
真空鍍膜材料及技術(shù)系列三《蒸發(fā)鍍膜技術(shù)概述與優(yōu)質(zhì)蒸鍍材料的選擇》
蒸發(fā)鍍膜是PVD真空鍍膜方式的一種,其特點(diǎn)是在真空條件下,材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜,再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗螅诓AП砻嫘纬筛街軓?qiáng)的膜層。濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜是目前最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一。
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蒸發(fā)鍍膜是PVD真空鍍膜方式的一種,其特點(diǎn)是在真空條件下,材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜,再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗?,在玻璃表面形成附著力很?qiáng)的膜層。濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜是目前最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一。
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